單項選擇題下列哪個不是單晶常用的晶向()

A.(100)
B.(001)
C.(111)
D.(110)


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1.單項選擇題PN結(jié)的基本特性是()

A.單向?qū)щ娦?br /> B.半導(dǎo)性
C.電流放大性
D.絕緣性

3.單項選擇題在光線作用下,能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱()

A.光電效應(yīng)
B.光生伏特效應(yīng)
C.內(nèi)光電效應(yīng)
D.外光電效應(yīng)

4.單項選擇題硅片拋光在原理上不可分為()

A.機械拋光法
B.化學(xué)拋光法
C.手工拋光法
D.機械--化學(xué)拋光法

5.單項選擇題可用作硅片的研磨材料是()

A.AL2O3
B.MGO
C.BA2O3
D.NACL

6.單項選擇題熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括()

A.球狀沉淀
B.片狀沉淀
C.棒狀沉淀
D.多面體沉淀

7.單項選擇題CZ法的主要流程工藝順序正確的是()

A.加料--熔化--縮頸生長--等徑生長--放肩生長--收尾
B.加料--熔化--縮頸生長--放肩生長--等徑生長--收尾
C.加料--熔化--等徑生長-放肩生長--縮頸生長--收尾
D.加料--熔化--等徑生長長--縮頸生長--放肩生長--收尾

8.單項選擇題懸浮區(qū)熔的優(yōu)點不包括()

A.不需要坩堝
B.避免了容器污染
C.更易獲得高純度硅
D.成本低

9.多項選擇題鑄造多晶硅中氫的主要作用包括()

A.鈍化晶界
B.鈍化錯位
C.鈍化電活性雜質(zhì)

10.單項選擇題鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括()

A.頭尾料和鍋底料中含有的氧
B.晶體生長過程中硅熔體與石英坩堝作用引入的氧
C.石墨加熱器與坩堝反應(yīng)引入的氧
D.外界空氣的進入