A、平放
B、直立
C、堆放
D、任意放置
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A、鉛增感屏?xí)a(chǎn)生可見(jiàn)光和熒光
B、鉛屏可吸收散射線(xiàn)
C、防止背散射造成膠片灰霧
D、鉛屏受X射線(xiàn)和γ射線(xiàn)照射會(huì)發(fā)生二次電子
A、較黑斑塊顯示
B、較白斑塊顯示
C、無(wú)顯示
D、以上任何一種
A、增大衍射斑的影響
B、減少或消除衍射斑的影響
C、增大焦距的影響
D、以上任何一種
A、感光度
B、梯度
C、灰霧度
D、以上都對(duì)
A、采用非增感型膠片、鉛增感組合
B、采用低管壓、高電流照相
C、采用增感型膠片與熒光增感屏組合
D、射線(xiàn)管焦點(diǎn)小
A、越小
B、越大
C、無(wú)變化
D、以上全對(duì)
A、小
B、大
C、無(wú)變化
D、以上全對(duì)
A、米吐?tīng)?br />
B、溴化鉀
C、亞硫酸鈉
D、對(duì)苯二酚
A、亞硫酸鈉
B、醋酸
C、海波
D、明礬
A、海波，無(wú)水亞硫酸鈉，醋酸，硼酸，溴化鉀
B、海波，無(wú)水亞硫酸鈉，醋酸，硼酸，明礬
C、米吐?tīng)?，無(wú)水亞硫酸鈉，醋酸，硼酸，明礬
D、對(duì)苯二酚，無(wú)水碳酸鈉，醋酸，硼酸，明礬
最新試題
各類(lèi)渦流檢測(cè)儀器的工作原理和（）是相同的。
缺陷愈大，所遮擋的聲束也愈多，底波波高也就愈低，這就有可能用缺陷波高與底波波高之比來(lái)表示缺陷的（）
各類(lèi)渦流檢測(cè)儀器的（）和結(jié)構(gòu)各不相同。
對(duì)于接觸法只須將能使缺陷落在其遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)內(nèi)的縱波直探頭在試件表面移動(dòng)，即可獲得缺陷的（）所在的位置，從而定出缺陷的平面位置。
渦流檢測(cè)儀的阻抗幅值型儀器在顯示終端僅給出（）的相關(guān)信息。
渦流檢測(cè)線(xiàn)圈是在被檢測(cè)導(dǎo)電材料或零件表面及近表面激勵(lì)產(chǎn)生（）
根據(jù)檢測(cè)對(duì)象和目的的不同，渦流檢測(cè)儀器一般可分為（）、渦流電導(dǎo)儀和渦流測(cè)厚儀三種。
渦流檢測(cè)線(xiàn)圈的互感線(xiàn)圈一般由（）構(gòu)成。
當(dāng)波束不再與缺陷相遇，則回波（）
磁性測(cè)厚技術(shù)包括機(jī)械式和（）兩種測(cè)量方法。