多項(xiàng)選擇題下列關(guān)于顯像劑粉末吸附缺陷中滲透劑的說法正確的有()。

A.顯像劑粉是吸附質(zhì)
B.顯像劑粉是吸附劑
C.滲透劑是吸附質(zhì)
D.滲透劑是吸附劑


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1.多項(xiàng)選擇題目前主要用的是數(shù)顯式黑度計(jì),主要作用有()。

A.測(cè)量底片反差
B.測(cè)量底片上焊縫黑度
C.測(cè)量熱影響區(qū)黑度
D.測(cè)定底片黑度是否滿足標(biāo)準(zhǔn)要求

3.多項(xiàng)選擇題用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問題有()。

A.探頭聲束是否有偏離
B.探頭是否有雙峰
C.信號(hào)幅度最小時(shí)缺陷不在探頭正下方
D.信號(hào)幅度最小時(shí)缺陷正好在探頭正下方

6.多項(xiàng)選擇題滲透檢測(cè)體系的分辨力是指滲透檢測(cè)體系()的能力。

A.探測(cè)缺陷尺寸
B.探測(cè)缺陷形狀
C.探測(cè)缺陷位置
D.發(fā)現(xiàn)缺陷大小

7.多項(xiàng)選擇題按照受檢材料的相容性,可將滲透劑分為()滲透劑。

A.液氧相溶
B.低硫
C.低氯
D.低氟

8.多項(xiàng)選擇題磁化曲線是表征鐵磁性材料磁特性的曲線,用以表示()。

A.H-Φ 關(guān)系
B.M-H 關(guān)系
C.B-H 關(guān)系
D.B-M 關(guān)系

9.多項(xiàng)選擇題標(biāo)準(zhǔn)試塊具有規(guī)定的(),這是標(biāo)準(zhǔn)試塊的基本要求。

A.化學(xué)成分
B.人工反射體大小
C.熱處理
D.幾何形狀

最新試題

磁性成像可分為磁場(chǎng)成像和磁性成像,對(duì)其描述正確的有()。

題型:多項(xiàng)選擇題

當(dāng)障礙物尺寸Df< < 波長(zhǎng)λ時(shí),會(huì)出現(xiàn)以下()等現(xiàn)象。

題型:多項(xiàng)選擇題

筒形或環(huán)形鍛件的鍛造工藝是先鐓粗,后沖孔,再滾壓。因此,缺陷的取向比軸類鍛件和餅類鍛件中的缺陷取向復(fù)雜。所以對(duì)這類鍛件一般采用()進(jìn)行檢測(cè)。

題型:多項(xiàng)選擇題

磁粉檢測(cè)用的黑光燈發(fā)出的光包含有(),而把不需要的光線用濾光片過濾掉。

題型:多項(xiàng)選擇題

板波的類型有()。

題型:多項(xiàng)選擇題

表面活性劑分子在水或水溶液表面的吸附近于飽和時(shí),水或水溶液的極性表面在很大程度上就被表面活性劑分子覆蓋,這時(shí)水或水溶液的()。

題型:多項(xiàng)選擇題

探傷儀面板上負(fù)責(zé)掃描電路的控制旋鈕有()。

題型:多項(xiàng)選擇題

組成滲透液的物質(zhì)很多,為保證其使用性能,除了主要的紅色染料外,又添加了()等物質(zhì)。

題型:多項(xiàng)選擇題

用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問題有()。

題型:多項(xiàng)選擇題

對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí),首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查,不滿足要求的底片不予評(píng)定,質(zhì)量檢查項(xiàng)目有()。

題型:多項(xiàng)選擇題