單項(xiàng)選擇題缺陷的（）是缺陷顯示的主要尺寸，它能提供一個(gè)肉眼可觀察的實(shí)測(cè)尺寸。
A.深度
B.長(zhǎng)度
C.寬度
D.體積
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1.單項(xiàng)選擇題導(dǎo)體在變化著的（）里因電磁感應(yīng)而產(chǎn)生渦流，在導(dǎo)體表面附近，渦流方向與原來(lái)電流方向相同，使電流密度增大而出現(xiàn)趨膚效應(yīng)。
A.磁場(chǎng)
B.電場(chǎng)
C.線圈
D.空間
2.單項(xiàng)選擇題對(duì)比試塊應(yīng)采用與被檢工件聲學(xué)性能相同或近似的材料制成，該材料用直探頭檢測(cè)時(shí)，不得有大于或等于（）平底孔當(dāng)量直徑的缺陷。
A.φ1mm
B.φ2mm
C.φ2.5mm
D.φ5mm
3.單項(xiàng)選擇題無(wú)損檢測(cè)通用工藝規(guī)程也稱（）。
A.工藝卡
B.程序文件
C.技術(shù)文件
D.工藝規(guī)程或規(guī)程
4.單項(xiàng)選擇題X 射線管的陽(yáng)極罩一般選用金屬（）來(lái)制造，用來(lái)吸收陽(yáng)極靶產(chǎn)生的二次電子。
A.鐵
B.鋅
C.銅
D.鋇
5.單項(xiàng)選擇題來(lái)自暗盒背面的散射稱為（）。
A.亂散射
B.背散射
C.前散射
D.集中散射
6.單項(xiàng)選擇題無(wú)損檢測(cè)通用工藝規(guī)程是指導(dǎo)檢測(cè)人員進(jìn)行實(shí)際檢測(cè)工作的技術(shù)性文件，是編寫(xiě)工藝卡的（）。
A.主要依據(jù)
B.主要內(nèi)容
C.一部分內(nèi)容
D.基本原則
7.單項(xiàng)選擇題在鐵磁性材料內(nèi)（）通過(guò)的閉合路徑叫作磁路。
A.磁通量
B.磁感應(yīng)線
C.磁力線
D.磁化電流
8.單項(xiàng)選擇題實(shí)際聲場(chǎng)非均勻激發(fā)的實(shí)際波源產(chǎn)生的（）要小于均勻激發(fā)的理想波源。
A.繞射
B.衍射
C.衰減
D.干涉
9.單項(xiàng)選擇題表面粗糙度對(duì)耦合效果有明顯的影響，對(duì)同一耦合劑（）。
A.表面粗糙大，耦合效果差，反射回波低
B.表面粗糙大，耦合效果好，反射回波高
C.表面粗糙小，耦合效果好，反射回波低
D.表面粗糙小，耦合效果差，反射回波高
10.單項(xiàng)選擇題液體和氣體只能承受（）。
A.應(yīng)力
B.拉應(yīng)力
C.剪切應(yīng)力
D.壓應(yīng)力
最新試題
標(biāo)準(zhǔn)試塊具有規(guī)定的（），這是標(biāo)準(zhǔn)試塊的基本要求。
題型：多項(xiàng)選擇題
下列關(guān)于照射場(chǎng)的大小對(duì)散射比的影像的說(shuō)法，錯(cuò)誤的有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
板波的類型有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
按照受檢材料的相容性，可將滲透劑分為（）滲透劑。
題型：多項(xiàng)選擇題
探傷儀面板上負(fù)責(zé)掃描電路的控制旋鈕有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
軟X 射線管選用鉬作陽(yáng)極靶，鉬靶和鎢靶比較，（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問(wèn)題有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
壓電晶體產(chǎn)生的壓電效應(yīng)主要有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
下列關(guān)于顯像劑粉末吸附缺陷中滲透劑的說(shuō)法正確的有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
磁性成像可分為磁場(chǎng)成像和磁性成像，對(duì)其描述正確的有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題