A.填充物
B.不規(guī)則鉛塊
C.補(bǔ)償塊
D.楔形板
E.多葉準(zhǔn)直器
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A.核素類型
B.幾何結(jié)構(gòu)
C.相對分布
D.劑量計算方法
E.強(qiáng)度權(quán)重
A.非均勻組織數(shù)量
B.非均勻組織密度
C.非均勻組織的原子序數(shù)
D.光子線的能量
E.射野的大小
A.兆伏級X射線
B.準(zhǔn)直器穿透輻射
C.機(jī)頭防護(hù)部分的穿透輻射
D.源的大小
E.射野大小
A.致死損傷
B.早期損傷
C.晚期損傷
D.亞致死損傷
E.潛在致死損傷
A.G1期
B.G2期
C.M期
D.N期
E.S期
A.12.5°偏轉(zhuǎn)
B.45°偏轉(zhuǎn)
C.90°偏轉(zhuǎn)
D.112.5°(滑雪式)偏轉(zhuǎn)
E.270°(消色散)偏轉(zhuǎn)
A.原射電子的反向散射
B.電子束的小角度多級散射
C.不規(guī)則射野輸出因子的計算
D.斜入射對劑量影響的處理需進(jìn)一步完善
E.高能次級電子在不均勻組織中的劑量計算
A.均整器
B.X射線靶
C.初級準(zhǔn)直器
D.二級準(zhǔn)直器
E.監(jiān)測電離室
A.前者可考慮計算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度,而后者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
B.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)所位置不均勻組織的厚度
C.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
D.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
E.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
A.源皮距
B.射野面積
C.組織深度
D.離軸距離
E.計算網(wǎng)格
最新試題
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
源皮距越小,百分深度劑量越大。
質(zhì)子束的優(yōu)勢在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對亞致死損傷的修復(fù)能力。
對射野輸出劑量的檢測頻率,加速器高于鈷60機(jī)。
準(zhǔn)直器所產(chǎn)生的散射線對劑量的貢獻(xiàn)主要源于二級準(zhǔn)直器。
對加速器射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月兩次。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
檢查燈光野與射野的一致性通常用膠片法。