A.非均勻組織數(shù)量
B.非均勻組織密度
C.非均勻組織的原子序數(shù)
D.光子線的能量
E.射野的大小
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A.兆伏級X射線
B.準(zhǔn)直器穿透輻射
C.機(jī)頭防護(hù)部分的穿透輻射
D.源的大小
E.射野大小
A.致死損傷
B.早期損傷
C.晚期損傷
D.亞致死損傷
E.潛在致死損傷
A.G1期
B.G2期
C.M期
D.N期
E.S期
A.12.5°偏轉(zhuǎn)
B.45°偏轉(zhuǎn)
C.90°偏轉(zhuǎn)
D.112.5°(滑雪式)偏轉(zhuǎn)
E.270°(消色散)偏轉(zhuǎn)
A.原射電子的反向散射
B.電子束的小角度多級散射
C.不規(guī)則射野輸出因子的計算
D.斜入射對劑量影響的處理需進(jìn)一步完善
E.高能次級電子在不均勻組織中的劑量計算
A.均整器
B.X射線靶
C.初級準(zhǔn)直器
D.二級準(zhǔn)直器
E.監(jiān)測電離室
A.前者可考慮計算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度,而后者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
B.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)所位置不均勻組織的厚度
C.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
D.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
E.前者可考慮計算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
A.源皮距
B.射野面積
C.組織深度
D.離軸距離
E.計算網(wǎng)格
A.化療
B.常規(guī)放射治療
C.肝移植
D.介入治療+立體定向放射治療
E.營養(yǎng)支持治療
A.主量子數(shù)
B.宇稱
C.軌道角動量量子數(shù)
D.軌道方向量子數(shù)
E.自旋量子數(shù)
最新試題
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時,應(yīng)采用雙平面插植。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對亞致死損傷的修復(fù)能力。
帶電粒子入射到物體時,沒有確定的射程。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
實(shí)際患者治療時,無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
LET=()Kev/μm 是高低LET 射線的分界線。