A.DNA
B.RNA
C.細(xì)胞膜
D.細(xì)胞質(zhì)
E.細(xì)胞核
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A、中淺層X(jué)射線
B、高能X射線
C、電子束
D、鈷-60射線
E、深部X射線
A、必須使用線源并且相互平行
B、所有放射源的中心必須位于同一平面
C、所有線源強(qiáng)度必須注明和均勻
D、相鄰放射源的間距必須相等
E、當(dāng)使用較長(zhǎng)的放射源時(shí),源間空隙會(huì)狹窄
A、必須用合適角度的楔形板進(jìn)行組織補(bǔ)償
B、用楔形板進(jìn)行補(bǔ)償時(shí),靶區(qū)劑量應(yīng)給在射野中心軸上射野間距的中心
C、擺位時(shí),源皮距應(yīng)取在基底線上
D、SSD方式比SAD方式治療更準(zhǔn)確
E、無(wú)須用合適角度的楔形板進(jìn)行組織補(bǔ)償
A、X射線系統(tǒng)
B、劑量學(xué)系統(tǒng)
C、機(jī)械系統(tǒng)
D、光學(xué)系統(tǒng)
E、成像系統(tǒng)
A、技師
B、護(hù)士
C、物理師
D、病理學(xué)醫(yī)師
E、放射腫瘤學(xué)醫(yī)師
A、化療
B、手術(shù)
C、全腦照射加頭部γ刀治療
D、營(yíng)養(yǎng)支持治療
E、常規(guī)放射治療
A、常規(guī)放射治療
B、化療
C、手術(shù)
D、X(γ)射線立體定向放射治療
E、營(yíng)養(yǎng)支持治療
A、化療
B、手術(shù)
C、常規(guī)放射治療
D、頭部γ刀治療
E、營(yíng)養(yǎng)支持治療
A、89MU
B、150MU
C、189MU
D、203MU
E、254MU
A、每周
B、每月
C、每年
D、換新源或維修后檢查
E、不做檢查
最新試題
實(shí)際患者治療時(shí),無(wú)環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
等效射野指的是通過(guò)計(jì)算換算后的方形野。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變?cè)叫 ?/p>
直線加速器使用的射野最大為()。
組織最大劑量比TMR 和源皮距的關(guān)系是()。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí),應(yīng)采用雙平面插植。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達(dá)式是()。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。