縱向弛豫是指()
A.T2弛豫
B.自旋-自旋弛豫
C.自旋-晶格弛豫
D.氫質(zhì)子順磁場方向排列
E.氫質(zhì)子逆磁場方向排列
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A.≤4.7T
B.≤0.3T
C.≤2.0T
D.≤1.0T
E.≤0.0282T
以下選項中,MRI組織參數(shù)不包括哪項()
A.T2值
B.質(zhì)子密度
C.回波時間
D.流空效應(yīng)
E.T1值
A.信噪比
B.偽影
C.分辨率
D.對比度
E.檢測時間
A.脈沖序列
B.脈沖參數(shù)
C.造影劑
D.以上均是
E.以上均不是
A.磁場強度改變
B.磁場均勻度破壞
C.對射頻產(chǎn)生影響
D.圖像對比度下降
E.磁場穩(wěn)定度下降
A.超導(dǎo)線圈應(yīng)保持在絕對零度
B.絕對零度等于負273℃
C.絕對零度等于負137℃
D.維持超導(dǎo)狀態(tài)的溫度不低于8K
E.超導(dǎo)體溫度高于10K后會導(dǎo)致失超
A.置于外加磁場后,順主磁場排列的質(zhì)子數(shù)目較逆主磁場的質(zhì)子稍多
B.無外加磁場時,質(zhì)子群中的各個質(zhì)子以任意方向自旋排列的質(zhì)子稍多
C.主磁場為1.0時,氫原子核的旋進頻率為63MHz
D.質(zhì)子磁矩運動的頻率f可用Larmor公式表示
E.原子核旋進頻率與主磁場強度Bo呈正比
A.頻率
B.體積
C.形狀
D.重量
E.密度
A.軟組織對比好
B.無輻射損傷,無痛苦
C.可作任何平面成像
D.常使用造影劑
E.某些眼部疾患具有特征性信號強度
A.靜脈竇血栓
B.腦梗死
C.腦出血
D.動脈瘤、AVM及海綿狀血管瘤
E.以上全對
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MRI技術(shù)的產(chǎn)生和發(fā)展與下列哪些因素有關(guān)()
不是顱腦MRI適應(yīng)證的是()
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目前MRA中常用技術(shù)有()
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