A.人工牙的排列
B.基托與黏膜的接觸面積
C.基托與黏膜的密合度
D.唾液質(zhì)量
E.以上都對(duì)
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A.后堤區(qū)較窄
B.牙槽嵴低平
C.黏膜薄
D.腭蓋平坦
E.系帶附著近牙槽嵴頂
A.基托材料
B.基托與黏膜的接觸面積
C.基托與黏膜的密合度
D.唾液質(zhì)量
E.以上都對(duì)
A.印模是否準(zhǔn)確
B.水平牙合位記錄是否準(zhǔn)確
C.垂直距離是否正常
D.排牙位置是否準(zhǔn)確
E.基托邊緣伸展是否合適
A.面積大
B.此處黏膜有彈性
C.此處黏膜較厚
D.此處黏膜上皮有角化層
E.以上均不對(duì)
A.面積大
B.牙槽骨致密
C.有堅(jiān)韌的黏膜
D.此處牙槽嵴寬
E.以上均對(duì)
A.大氣壓力
B.黏著力
C.附著力
D.摩擦力
E.內(nèi)聚力
A.后顫動(dòng)線(xiàn)
B.前顫動(dòng)線(xiàn)
C.腭小凹后2mm
D.腭小凹直連線(xiàn)上
E.腭小凹之前方
A.黏稠而量多
B.黏稠而量少
C.稀而量多
D.稀而量少
E.以上均可
A.牙合平面
B.磨光面
C.定位平面
D.組織面
E.印模面
A.大氣壓力
B.表面張力
C.吸附力
D.以上都對(duì)
E.以上都不對(duì)
最新試題
全口義齒基托邊緣不能過(guò)度伸展的區(qū)域是（）
屬于副承托區(qū)（）
屬于緩沖區(qū)（）
上頜側(cè)切牙的切緣距離合平面（）
下頜處于安靜狀態(tài)時(shí)，上下牙列之間的距離稱(chēng)（）
需重新制作義齒（）
正確處理方法是（）
會(huì)造成上頜全口義齒左右翹動(dòng)的解剖標(biāo)志為（）
屬于邊緣封閉區(qū)（）
下前牙切緣高于牙合平面（）